Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
Gratis thuislevering in België vanaf € 30
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
Gratis thuislevering in België vanaf € 30
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Winkels

Verlanglijstje

Winkels

Verlanglijstje

Zoeken

Volg ons op

140 winkels

Wist je dat er in Vlaanderen voor iedereen een Standaard Boekhandel is binnen een straal van 7 km?

Vind hier een winkel

€ 93,45

+ 186 punten

Levertermijn 1 à 4 weken

Eenvoudig bestellen

Veilig betalen

Gratis thuislevering vanaf € 30 (via bpost)

Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

The large polarization difference between AlN and GaN provides extremely high electron densities at the heterointerface covered by only 3-4 nm AlN barrier, which makes AlN/GaN heterojunction the ultimate nitride structure for high-frequency applications. This work includes the systematic study of the MBE growth of AlN/GaN HEMTs, theoretical study of 2DEG scattering mechanisms, and device issues of in-situ buffer leakage removal with polarization engineering and decreasing contact resistance with band diagram engineering. This book shows the approach to achieve the record high 2DEG density (5e13/cm2) and the record-low sheet resistance (128 ohm/sq) in high-quality AlN/GaN HEMTs. As a theoretical study, electron scattering mechanisms are reviewed in this book. A novel scattering mechanism, remote surface roughness scattering, is proposed. Large buffer leakage and ohmic contact resistance are two factors that heavily degrade high-speed device performance. Polarization engineering was applied in the buffer leakage study, which increased the ON/OFF ratio by 4 orders. Regrown Si-doped GaN and graded InGaN/InN contacts have been demonstrated with a comprehensive X-ray diffraction study.