Bedankt voor het vertrouwen het afgelopen jaar! Om jou te bedanken bieden we GRATIS verzending (in België) aan op alles gedurende de hele maand januari.

Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
In januari gratis thuislevering in België
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Bedankt voor het vertrouwen het afgelopen jaar! Om jou te bedanken bieden we GRATIS verzending (in België) aan op alles gedurende de hele maand januari.

Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
In januari gratis thuislevering in België
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Winkels

Verlanglijstje

Winkels

Verlanglijstje

Zoeken

Volg ons op

140 winkels

Wist je dat er in Vlaanderen voor iedereen een Standaard Boekhandel is binnen een straal van 7 km?

Vind hier een winkel

€ 30,95

+ 61 punten

Levering 1 à 2 weken

Eenvoudig bestellen

Veilig betalen

In januari gratis thuislevering in België (via bpost)

Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

The focus of semiconductor wafer processing is rapidly changing. Pure device performance is no longer sufficient to ensure a technology's success as IC chips approach 1GB. Yield, reliability, cost and manufacturability are principal drivers of the industry. Great strides have been made in understanding the science and impact of front-end (pre-metal) chemical surface preparations and are beginning to influence the 'real' technology and its evolution. Efforts in understanding particle and metals removal, along with Si surface etching and microroughness are prime examples of areas where work is beginning to pay off together with processes related to the back-end (post-metal). The focus of this book is to report new findings and to discuss surface preparation with an emphasis on gaining a mechanistic understanding of the underlying science upon which the technology is based. Topics include: megasonic cleaning; SC1 technology; surface preparation and gate oxide reliability; CMP/CMP cleaning; post-etch processing; surface microroughness; wet chemical cleaning and gate oxide integrity; analytical studies of surfaces; wet chemical cleaning/etching; dry wafer cleaning; and environmentally friendly processing.