Bedankt voor het vertrouwen het afgelopen jaar! Om jou te bedanken bieden we GRATIS verzending (in België) aan op alles gedurende de hele maand januari.
- Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
- In januari gratis thuislevering in België
- Ruim aanbod met 7 miljoen producten
Bedankt voor het vertrouwen het afgelopen jaar! Om jou te bedanken bieden we GRATIS verzending (in België) aan op alles gedurende de hele maand januari.
- Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
- In januari gratis thuislevering in België
- Ruim aanbod met 7 miljoen producten
€ 264,45
+ 528 punten
Omschrijving
Publisher's Note: Products purchased from Third Party sellers are not guaranteed by the publisher for quality, authenticity, or access to any online entitlements included with the product.
Photomasks are defect-free optical templates -- the printing masters for the fabrication of integrated circuits (ICs). When IC feature sizes fall below the exposure tool's source wavelength, photomask fabrication becomes difficult: very strict mask critical dimension (CD) and feature placement specifications, intensive capital equipment investment, unique raw materials and applications, and special expertise requirements for photomask fabrication technologists are necessary to fabricate modern microelectronics. Thus the rapid recent growth of the field and the need for this book.
This text details the science and technology of industrial photomask production, including fundamental principles, industrial production flows, technological evolution and development, and state of the art technologies. Focusing on industrial applications rather than pure science, the goal of the book is to provide a comprehensive reference for any engineer developing microelectronic manufacturing processes
Photomasks are defect-free optical templates -- the printing masters for the fabrication of integrated circuits (ICs). When IC feature sizes fall below the exposure tool's source wavelength, photomask fabrication becomes difficult: very strict mask critical dimension (CD) and feature placement specifications, intensive capital equipment investment, unique raw materials and applications, and special expertise requirements for photomask fabrication technologists are necessary to fabricate modern microelectronics. Thus the rapid recent growth of the field and the need for this book.
This text details the science and technology of industrial photomask production, including fundamental principles, industrial production flows, technological evolution and development, and state of the art technologies. Focusing on industrial applications rather than pure science, the goal of the book is to provide a comprehensive reference for any engineer developing microelectronic manufacturing processes
Specificaties
Betrokkenen
- Auteur(s):
- Uitgeverij:
Inhoud
- Aantal bladzijden:
- 500
- Taal:
- Engels
Eigenschappen
- Productcode (EAN):
- 9780071445634
- Verschijningsdatum:
- 1/08/2005
- Uitvoering:
- Hardcover
- Formaat:
- Genaaid
- Afmetingen:
- 156 mm x 236 mm
- Gewicht:
- 920 g
Alleen bij Standaard Boekhandel
+ 528 punten op je klantenkaart van Standaard Boekhandel
SOLDEN
Beoordelingen
We publiceren alleen reviews die voldoen aan de voorwaarden voor reviews. Bekijk onze voorwaarden voor reviews.