Standaard Boekhandel gebruikt cookies en gelijkaardige technologieën om de website goed te laten werken en je een betere surfervaring te bezorgen.
Hieronder kan je kiezen welke cookies je wilt inschakelen:
Technische en functionele cookies
Deze cookies zijn essentieel om de website goed te laten functioneren, en laten je toe om bijvoorbeeld in te loggen. Je kan deze cookies niet uitschakelen.
Analytische cookies
Deze cookies verzamelen anonieme informatie over het gebruik van onze website. Op die manier kunnen we de website beter afstemmen op de behoeften van de gebruikers.
Marketingcookies
Deze cookies delen je gedrag op onze website met externe partijen, zodat je op externe platformen relevantere advertenties van Standaard Boekhandel te zien krijgt.
Je kan maximaal 250 producten tegelijk aan je winkelmandje toevoegen. Verwijdere enkele producten uit je winkelmandje, of splits je bestelling op in meerdere bestellingen.
Tungsten oxide thin films play a major role in electrochromism and it's the most investigated electrochromic material. Studies have shown that structural, electrical and optical properties of tungsten oxide thin films depend on deposition conditions and preparation techniques. In this work, the optical properties of tungsten oxide thin films prepared in reactive dc magnetron sputtering of tungsten target with argon in oxygen atmosphere have been studied. The optical properties of films prepared at different sputtering power from 300 watts to 400 watts and sputtering pressure in the range (0.65 - 0.90) Pa were investigated through the transmittance spectra recorded by optical spectroscopy measurements in the wavelength range 300-800 nm. The experimental curves of transmittance are reproduced by simulations to determine the band gap energy, refractive index, extinction coefficient, and film thickness of tungsten oxide films.