• Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • Gratis thuislevering in België vanaf € 30
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten
  • Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • Gratis thuislevering in België vanaf € 30
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Hf-Based High-k Dielectrics

Process Development, Performance Characterization, and Reliability

Young-Hee Kim, Jack C. Lee
€ 50,45
+ 100 punten
Levertermijn 1 à 4 weken
Eenvoudig bestellen
Veilig betalen
Gratis thuislevering vanaf € 30 (via bpost)
Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

In this work, the reliability of HfO2 (hafnium oxide) with poly gate and dual metal gate electrode (Ru-Ta alloy, Ru) is investigated. Hard breakdown and soft breakdown, particularly the Weibull slopes, are studied under constant voltage stress. Dynamic stressing is also used. The combination of trapping and detrapping contributed to the enhancement of the projected lifetime.

Specificaties

Betrokkenen

Auteur(s):
Uitgeverij:

Inhoud

Aantal bladzijden:
92
Reeks:

Eigenschappen

Productcode (EAN):
9781598290042
Verschijningsdatum:
30/06/2005
Uitvoering:
Paperback
Afmetingen:
187 mm x 235 mm
Standaard Boekhandel

Alleen bij Standaard Boekhandel

+ 100 punten op je klantenkaart van Standaard Boekhandel
CADEAU

Onze must-reads: hét eindejaarsgeschenk

Vul een gat in iemands lectuur
CADEAU
GDABD Must-read
Standaard Boekhandel

Beoordelingen

We publiceren alleen reviews die voldoen aan de voorwaarden voor reviews. Bekijk onze voorwaarden voor reviews.