Standaard Boekhandel gebruikt cookies en gelijkaardige technologieën om de website goed te laten werken en je een betere surfervaring te bezorgen.
Hieronder kan je kiezen welke cookies je wilt inschakelen:
Technische en functionele cookies
Deze cookies zijn essentieel om de website goed te laten functioneren, en laten je toe om bijvoorbeeld in te loggen. Je kan deze cookies niet uitschakelen.
Analytische cookies
Deze cookies verzamelen anonieme informatie over het gebruik van onze website. Op die manier kunnen we de website beter afstemmen op de behoeften van de gebruikers.
Marketingcookies
Deze cookies delen je gedrag op onze website met externe partijen, zodat je op externe platformen relevantere advertenties van Standaard Boekhandel te zien krijgt.
Je kan maximaal 250 producten tegelijk aan je winkelmandje toevoegen. Verwijdere enkele producten uit je winkelmandje, of splits je bestelling op in meerdere bestellingen.
Mitigating the power concerns involved with the aggressive shrinking of silicon (Si) based complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) transistors requires the adoption of high-mobility, alternative materials such as Germanium (Ge). Although the use of Ge in bulk form is cost-prohibitive, creative methods such as the application of Ge on to Si substrate via a buffer layer "bridge" helps drive the feasibility of the use of Ge for novel, low-power applications using standard CMOS processes. This work explores the electrical and material characteristics of MOS capacitors fabricated on crystallographic Ge integrated on to Si substrate via AlAs/GaAs buffers. Electrical characteristics of different crystallographically oriented Ge integrated on AlAs/GaAs buffers and the tunability of a key device characteristic known as threshold voltage is demonstrated as well. Thus, this research demonstrates the feasibility of the use of Ge integrated on Si via AlAs/GaAs buffer layers for high-speed, low-power electronic devices.