Er zijn problemen bij het activeren van e-books. Daardoor kan het langer duren voor je aangekochte e-books beschikbaar zijn. Je ontvangt automatisch bericht van zodra dat het geval is.
  • Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • In januari gratis thuislevering in België
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten
Er zijn problemen bij het activeren van e-books. Daardoor kan het langer duren voor je aangekochte e-books beschikbaar zijn. Je ontvangt automatisch bericht van zodra dat het geval is.
  • Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • In januari gratis thuislevering in België
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten
  1. Boeken
  2. Bedrijf & Technologie
  3. Techniek
  4. Elektronica & Elektrotechniek
  5. Fundamental Electron Interactions with Plasma Processing Gases

Fundamental Electron Interactions with Plasma Processing Gases

Loucas G Christophorou, James K Olthoff
Hardcover | Engels | Physics of Atoms and Molecules
€ 307,45
Uitvoering
Levering 1 à 2 weken
Eenvoudig bestellen
Veilig betalen
Gratis thuislevering vanaf € 30 (via bpost)
Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

This volume deals with the basic knowledge and understanding of fundamental interactions of low energy electrons with molecules. It pro- vides an up-to-date and comprehensive account of the fundamental in- teractions of low-energy electrons with molecules of current interest in modern technology, especially the semiconductor industry. The primary electron-molecule interaction processes of elastic and in- elastic electron scattering, electron-impact ionization, electron-impact dissociation, and electron attachment are discussed, and state-of-the- art authoritative data on the cross sections of these processes as well as on rate and transport coefficients are provided. This fundamental knowledge has been obtained by us over the last eight years through a critical review and comprehensive assessment of "all" available data on low-energy electron collisions with plasma processing gases which we conducted at the National Institute of Standards and Technology (NIST). Data from this work were originally published in the Journal of Physical and Chemical Reference Data, and have been updated and expanded here. The fundamental electron-molecule interaction processes are discussed in Chapter 1. The cross sections and rate coefficients most often used to describe these interactions are defined in Chapter 2, where some recent advances in the methods employed for their measurement or calculation are outlined. The methodology we adopted for the critical evaluation, synthesis, and assessment of the existing data is described in Chapter 3. The critically assessed data and recommended or suggested cross sections and rate and transport coefficients for ten plasma etching gases are presented and discussed in Chapters 4, 5, and 6.

Specificaties

Betrokkenen

Auteur(s):
Uitgeverij:

Inhoud

Aantal bladzijden:
781
Taal:
Engels
Reeks:

Eigenschappen

Productcode (EAN):
9780306480379
Verschijningsdatum:
31/12/2003
Uitvoering:
Hardcover
Formaat:
Genaaid
Afmetingen:
174 mm x 255 mm
Gewicht:
1669 g
Standaard Boekhandel

Alleen bij Standaard Boekhandel

Cadeau

Dubbele punten

bij aankoop van een boek uit de selectie
Cadeau
Actie dubbele punten
AANGERADEN

De lente in je boekenkast

Ontdek onze boekentips om de lente fris, inspirerend en vol leesplezier te beleven
AANGERADEN
Boekentips lente 2026
Standaard Boekhandel

Beoordelingen

We publiceren alleen reviews die voldoen aan de voorwaarden voor reviews. Bekijk onze voorwaarden voor reviews.