Bedankt voor het vertrouwen het afgelopen jaar! Om jou te bedanken bieden we GRATIS verzending (in België) aan op alles gedurende de hele maand januari.

Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
In januari gratis thuislevering in België
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Bedankt voor het vertrouwen het afgelopen jaar! Om jou te bedanken bieden we GRATIS verzending (in België) aan op alles gedurende de hele maand januari.

Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
In januari gratis thuislevering in België
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Winkels

Verlanglijstje

Winkels

Verlanglijstje

Zoeken

Volg ons op

140 winkels

Wist je dat er in Vlaanderen voor iedereen een Standaard Boekhandel is binnen een straal van 7 km?

Vind hier een winkel

€ 82,45

+ 164 punten

Levertermijn 1 à 4 weken

Eenvoudig bestellen

Veilig betalen

In januari gratis thuislevering in België (via bpost)

Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

Silicon carbide is the only wide band gap semiconductor that has a native oxide, and a leading candidate for development of next-generation, energy efficient, high power metal-oxide-semiconductor field effect transistors (MOSFETs). Progress in this technology has been limited by the semiconductor-dielectric interface structure and its effect on the inversion layer mobility. The major objective of this work is to study and improve 4H-SiC MOSFET interface structure, defect states and inversion layer mobility on the (11-20) crystal face of SiC (a-face), employing nitrogen and phosphorous passivation. We also use these results to explore the effect of reactive ion etching on the a-face, an important aspect of processing optimum power devices. We correlate electrical measurements, i.e. current-voltage (I-V) and capacitance-voltage (C-V) with physical characterization including X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), atomic force microscopy (AFM), transmission electron microscopy (TEM), secondary ion mass spectrometry (SIMS) and medium energy ion scattering (MEIS).